Тональная основа Huda Beauty FauxFilter

Нанесение любого макияжа начинается с выравнивания тона кожи. Чтобы добиться безупречной формы, следует использовать густой тональный крем, например, дневной крем для лица. Ярким примером этого может служить американский бренд Huda Beauty. Ваша кожа будет выглядеть так, будто ее отфильтровали в фоторедакторе. Формула продукта обогащена целым комплексом увлажняющих компонентов и даже оказывает благотворное влияние на состояние кожи при ежедневном использовании. Пришло время протестировать формы и создать новый, уникальный «образ».

Особенности тональной основы FauxFilter Foundation от Huda Beauty:

- изделие обладает высокой прочностью;
- высокопигментированная формула скрывает нежелательные недостатки: от покраснений до пятен;
- формула обогащена аргановым маслом и экстрактом центеллы азиатской;
- придает естественный блеск;
- выравнивает микрорельеф кожи и создает эффект фотофильтра;
- устойчив к воде, дождю и другим неблагоприятным погодным условиям.

Перед нанесением тонального крема используйте основу под макияж, чтобы добиться плотного покрытия и стойкого результата. Для нанесения тонального крема используйте синтетическую кисть среднего размера и наносите тональный крем круговыми движениями. Для получения среднего покрытия смешайте тональный крем с основой под макияж и нанесите синтетической кистью или спонжем для макияжа.

Вода, циклопентасилоксан, тальк, изододекан, диметикон ПЭГ-10, полиметилметакрилат, бутиленгликоль, глицерин, изостеарат полиглицерил-4, триметилсилоксифенилдиметикон, спирт денат., неопентилликолитемонат, диметилтексанолид феноксиэтанол, бензиловый спирт, миристиллактат, хлорид натрия, дегидроацетат натрия, гидроксид алюминия, масло аргании спинозада, токоферола ацетат, парфюм/этиловый спирт, лауроилглутамат натрия, кремний, динадолглутамат, диоксид магния, глутамат, глицерин, динадион, экстракт азиатики, хлорид магния, диметикон водорода, бензилсалицилат, кумарин, гексилциннамаль, гидрокситронеллаль, гидроксиизогексил 3-циклогексенкарбоксальдегид, линалоол. Может быть в составе (): CI 77891 (диоксид титана), CI 77491 (оксиды железа), CI 77492 (оксиды железа), CI 77499 (оксиды железа), CI 77007 (ультрамарины).